Nuovo traguardo fotovoltaico per l’Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne. L’Istituto di Microtecnica dell’ateneo svizzero ha raggiunto un’efficienza del 10,7%
per il thin film in silicio microcristallino a singola giunzione,
superando così il precedente record mondiale del 10,1% detenuto dal 1998
dalla società giapponese Kaneka Corporation.Il miglioramento, certificato dall’Istituto Fraunhofer per i sistemi ad energia solare (ISE), è stato raggiunto con meno di 2 micrometri di materiale o fotovoltaico attivo grazie al lavoro svolto dal team del dottor Fanny Meillaud e Matthieu Despeisse. “In questi ultimi anni abbiamo acquisito una comprensione profonda in termini di qualità di materiale e di progettazione di design efficienti nella cattura della luce che, in combinazione con l’ottimizzazione del processo, ha portato a questo straordinario record mondiale di efficienza”, ha spiegato uno degli autori del lavoro. È importante sottolineare che i procedimenti impiegati possono essere scalati senza fatica dalla cella al modulo e che l’attuale prestazione del 10,7% è stata ottenuta con solo 1,8 micrometri di silicio, vale a dire 100 volte in meno lo spessore del materiale normalmente impiegato dalla tecnologia tradizionale.
Il record di efficienza riferito indica chiaramente che il potenziale dei dispositivi fotovoltaici a film sottile e multigiunzione (usato in combinazione con silicio amorfo per realizzare celle a più strati) potrebbe essere esteso sopra il valore 13,5%, con un consumo minimo di materia prima e a basso costo.
Fonte (rinnovabili.it)
